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纯离子镀膜(Pure Ion Coating)技术
纯离子镀膜(Pure Ions Coating,简称PIC) 是纯离子真空电弧镀膜的简称,是安徽纯源镀膜科技有限公司的专利镀膜技术(包括4项发明专利)。 和普通真空离子镀膜相比,PIC技术有两大...
化学气相沉积(CVD)技术
化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,简称CVD)是指真空高温下的气相化学反应,是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的方法。 ...
磁控溅射(Sputter)技术
磁控溅射是指:电子在电场和磁场的交互作用下,在飞向阴极过程中与氩原子发生碰撞,电离产生出Ar离子,Ar离子被电场加速后,以高能量轰击靶表面,使阴极靶材发生溅射并沉积在...
离子束清洗(Ion Beam Cleaning)技术
技术背景和简介: 1. 任何物质的微结构表面都会粘附各种各样的气体分子、微小颗粒、氧化物杂质等,统称为粘附物,这些粘附物属于微观粒子,宏观的清洗方式不能清除它们; 2....

企业概况

安徽纯源镀膜科技有限公司(简称纯源镀膜),座落于合肥市高新技术开发区永和路99号,是由新加坡归国创业团队于2014年创立的高科技公司,主要从事真空镀膜设备的设计、研发、加工制造、销售、售后服务和镀膜生产服务。 … 详细

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