PIC(Pure Ion Coating)特征是：在真空条件下点火碳头敲击至阳极内的阴极靶（碳靶）上，靶面被瞬间激发产生电场，在放电空间中，工艺气体的气体原子与电子发生碰撞使气体离化产生等离子体，并受到基片前负电位电场加速，轰击沉积在基片表面。纯离子镀膜形成的膜基结合力好、膜层的绕镀性好、膜层组织可控能数多、膜层粒子总体能量高，容易进行反应沉积，可以在较低温度下获得化合物膜层。
