PECVD连续式磁控溅射镀膜设备生产线：是采用多个真空腔室组成的连续镀膜成产线模式，各阶段的真空腔室可按要求定制定数。制备在低压和升温的情况下，等离子子发生器直接装在镀膜板中间发生反应。采用射频PECVD化学气相沉积技术，沉积速率快，成膜质量好，可镀膜氧化物薄膜、氮化物薄膜、无定型硅薄膜和碳化硅薄膜等。
1、设备可由：装载工作台+前处理室+离子束清洗室+预镀膜室（缓冲室）+磁控溅射镀膜室+平移室+全自动控制系统等组成；全SUS304不锈钢材质制成。隐藏式双层冷却水套设计；
2、每一阶段的进程都可以设计成单个真空腔室或多个真空腔室；
3、传动系统：流轴传动，变频可调，感应式室门开启系统；
4、每一阶段的工序进程之间腔室都采用先进的插板阀进行腔室隔断，可以实现有效隔断，稳定工艺气体；
5、装载工作台在装载的同时设备生产线所有腔室同步进行抽真空，以达到工作气压要求状态。极大缩短了前处理工作时间；
6、生产线采用了均匀进气管结构设计，气流注入均匀平缓；
7、电气控制：生产线采用PLC全过程控制，快速的生产节拍，配备工业计算机显示系统，控制屏采用分屏监控模式以达到每腔室每阶段的实时数据记录分析；
8、人机对话：控制系统能实现人、机对话，及时对生产过程进行必要干预。运行过程有报警提示和故障显示，故障显示能提示操作人员正确的操作和排故。
