PE422设备主要是（集）一体化高性能弧源技术（PEPIC）、 高能离子束清洗技术（IONBEAM）和磁控溅射技术（SPUTTER）三种技术融合一体，可适应多种镀膜靶材，无论金属、非金属及各类复合材料都可以利用此设备进行镀膜及成膜，膜层具有高致密性、超硬、耐磨损、耐腐蚀等特点。设备可镀制各类金属复合物涂层如：TiN、TiCN、TiAlN、CrN；金属涂层如：Cu、Au、Ag等。设备具备可编程序控制器（PLC）+人机界面(HMI)组合电气控制系统，可实现全自动化控制。
➢PE422设备采用高效的电磁过滤系统，能有效过滤大颗粒及杂质，可制备兼具“功能性”与“装饰性”的优质膜层；
➢采用全新的弧源设计，应用最新的电弧技术，可大幅度提高弧源连续工作的可靠性，缩短设备维护时间;；
➢可用于制备各类金属、合金、金属氮化物涂层，制备的涂层具有硬度高、致密性好、表面光洁度高和耐腐蚀性能优越的特点；
消费电子行业、智能穿戴、金属配饰工模具、切削刀具等精密零部件都可用此款设备为客户镀制需要的颜色＋功能涂层。
PE422设备镀制膜层图集（部分）
