PIS111-2设备主要是（集）纯离子镀膜技术（PIC）、 高能离子束清洗技术（IONBEAM）两种技术融合一体，本系列标配双腔室结构，更好的满足高真空镀膜需求;使膜层具有高致密度、超硬、耐磨损、耐腐蚀等特点。设备可镀制10nm-3μm的超级类金刚石膜（Ta-C）。设备具备可编程序控制器（PLC）+人机界面(HMI)组合电气控制系统，全自动化控制系统。
➢设备配套有更高效的电磁过滤系统，极好的获得纳米级超洁净涂层，专注于超洁净纳米Ta-C涂层制备，广泛应用于玻璃模压成型模具表面改性；
➢双腔室设计，保证了工艺腔的稳定性，极大缩短了镀膜前处理时间，提高工作效率；
➢采用纯离子低温镀膜工艺，镀膜过程控制在80℃以下，可避免热应力和基材变形；
➢自主设计的全自动智能化工艺操作系统，提供全面、便捷的工艺配方编辑及调用能力，配备实时工艺参数监控系统，允许在线远程控制。
精密光学行业(模压模具、精密机械零部件等)，满足客户超硬耐磨高寿命使用需求。
PIS111-2设备镀制膜层图集（部分）
