镀膜设备-P纯离子镀膜机系列

镀膜设备-P纯离子镀膜机系列

CYEB-1300R光学蒸发镀膜设备

CYEB-1300R型设备专为光学薄膜器件镀膜设计,配置低温捕集器辅助真空,配置优良电子枪,采用IAD射频离子辅助蒸发成膜方式。在保证精密光学特性的同时,膜层残余应力低、均匀性好、致密度高;高自动化程度的膜厚控制系统,全自动化控制模块,稳定性能好操作简单且维护方便,各系统单元和结构很好地满足光学薄膜生产工艺要求。适用于AR膜、颜色膜、NCVM非导金属膜、AF膜、装饰膜、激光膜,DBR反射膜等加工,是精密光学薄膜的理想镀制设备,提供高水平的膜厚控制精度和人性化的操控。


设备优势

多功能涂层组合

膜层精度控制±1%

设备稳定重复性±1%

实现多种工艺技术

降本增效、维护便捷

全自动化工艺控制软件


设备参数

设备型号

CYEB-1300R

镀膜源类型

蒸发源、RF射频离子源

极限真空(清洁空载条件下)/漏率

≤8×10-5Pa/≤5×10-10Pa•m3/s

抽气速率

<30分钟(真空度5x10-3Pa,空载)

真空室尺寸(mm)

Φ1300*H1600

有效镀膜范围(mm)

Φ1146

可选配套电源

允许直流脉冲、中频和射频工作模式,兼容性强

工艺气体

Ar,O2

靶材匹配

硅环等

真空系统

干泵+分子泵

控制方式

PLC+上位机

设备功率

50KW

设备占地(mm)

L3150×W3700×H3000

配套要求

循环水压力:0.2-0.4MPa,压缩空气:0.6-0.7MPa

设备应用领域

消费电子领域:智能手机、数码相机、录像机、投影仪、望远镜、传真机、复印机、眼镜等;

车载显示:消费品车载显示屏、车载相机、控制面板等;

LED显示:产业应用LED、液晶显示器等;

电子元器件领域:电子元器件产业设备镜头、光学部件、激光器、光开关部件等。



CYEB-1300R设备镀制膜层图集(部分)