系列设备主要是（集）纯离子镀膜技术（PIC）、 高能离子束清洗技术（IONBEAM）和磁控溅射技术（SPUTTER）三种技术融合一体，可适应广泛镀膜靶材，无论金属还是介质、化合材料都可以利用溅射工艺进行镀膜及成膜，使膜层具有高致密度、超硬、耐磨损、耐腐蚀等特点。可镀制TiN、TiC、TiCN、TiAlN、CrN、CU、AU、超级类金刚石膜（TAC、DLC）、装饰膜等非金属及其化合物的膜层和复合膜层。可编程序控制器（PLC）+触摸屏（HMI）组合电气控制系统，全自动控制。
1、传动装置为水冷式：设计新颖、结构紧凑、系列间通用、互换性强；水冷式机座，散热效果佳；滚动轴承及传动齿轮可加润滑油运行，使用寿命增长3-5倍；
2、旋转装置为行星旋转机构、据镀膜工艺不同，设计为：公转式、公/自转式；
3、采用气动门铰，自动锁门，减少操作程序，增强真空门整体的密闭性及减少对橡胶密封圈的破坏性；
4、真空容器设计为新型结构，用户可据自己的需求，升级为多功能镀膜设备；
5、多弧离子部份采用先进镀膜工艺技术，即可镀制装饰膜，也能镀制功能膜，数道工艺，一次完成，极为先进科学；
6、智能控制：PLC智能控制+HMI全彩人机触控界面，实现全自动控制；
7、报警及保护：异常情况进行报警，并执行相应保护措施。
