P纯离子镀膜机系列

P纯离子镀膜机系列

PI纯离子镀膜机

PIS210-2镀膜机:腔体结构由装载腔室+真空镀膜工艺腔室组合而成;镀膜工艺系统由纯离子镀膜(PIC)+离子束清洗(IONBEAM)组合而成。本设备为全自动设备。模块化控制,操作简单、维护方便,一键式操作即可完成多层镀膜膜沉积,适合光学镜头模具等高端产品的镀膜。

主要特点

1、腔体结构由一个装载腔室和一个真空镀膜工艺腔室组合而成;

2、装载腔室装载的同时镀膜工艺腔室同步进行抽真空,极大缩短了镀膜前处理时间,提高工作效率;

3、装载腔室和镀膜工艺腔室之间我们设计采用插板阀隔开,可以有效隔断,稳定工艺气体;

4、传动采用磁导向,保障传动的稳定性。采用变频调速电机驱动,运行速度可调节。



技术优势

1、PIC配有高效的电磁扫描系统和过滤系统,离子束能量和方向可调,可将等离子体中的杂质颗粒、宏观粒子、大型离子团等过滤干净,经过磁过滤后沉积粒子的离化率为100%,并且可以过滤掉大颗粒,因此制出的纳米薄膜非常致密且平整光滑,抗腐蚀性能好,与工件的结合力很强,在均匀性、致密性、结合度、硬度、摩擦系数、改变物质表面结构和消除薄膜颗粒等方面取得里程碑式的突破;

2、纯离子镀膜技术是低温工艺,镀膜过程可以控制在80〫C以下。镀膜过程中既不需要高温也不会产生高温,因此可以应用于塑料、橡胶等产品;

3、作为纯离子镀膜重要应用之一的类金刚石DLC镀膜,膜层可以达到75%以上的(金刚石键)SP3键,其物理化学性质和金刚石极其类似,所以薄膜具有极高的硬度(>75GPa),极低的摩擦系数(<0.1),耐腐蚀性、光学透明度等一系列优异特征。可将镀膜件(基体)寿命延长7-10倍。



设备参数

流量统计代码