RIE(Reactive Ion Etching)离子刻蚀机：系列设备为真空等离子刻蚀机属于电子工业的干法清洗，工艺气体在电子区域形成等离子体，并产生电离气体和释放高能电子组成的气体，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面，等离子体在工件表面发生反应，从而实现清洁、改性、刻蚀的目的，最后将污染物转换为气相，并通过真空泵用连续气体流将其排出。
1、超低清洗温度，满足不同场合温度要求，不对清洗产品造成温度影响；
2、旋转装置为行星旋转机构、具镀膜工艺不同，设计为：变频调速，公转式、公自转结合式。采用气动门铰，自动锁门，减少操作程序，增强真空门整体的密闭性及减少对橡胶密封圈的破坏性；
3、高真空度真空腔体设计及制造工艺，配置进口真空泵（分子泵），用户可据自己的需求，随时升级为多功能镀膜设备；
4、设备采用原装进口高压激励电路技术，产生高密度等离子体，确保出众的清洗效果；
5、放电技术：特殊处理及特殊结构的放电装置，确保形成稳定均匀的等离子体；
6、智能控制：PLC智能控制+HMI全彩人机触控界面，实现逻辑全自动控制；
7、报警及保护：全面安全防护包括：温度安全防护功能、过载防护功能、短路断路报警防护功能，各种误操作保护功能。异常情况进行报警，并执行相应保护措施。
