离子刻蚀系列RIE

离子刻蚀系列RIE

离子刻蚀机RIE

系列设备是安徽纯源镀膜科技有限公司采用专利的磁场设计和工艺气体进气方式,离子束清洗源能更大效率地把氩气变为高能的氩离子。


RIE(Reactive Ion Etching)离子刻蚀机:系列设备为真空等离子刻蚀机属于电子工业的干法清洗,工艺气体在电子区域形成等离子体,并产生电离气体和释放高能电子组成的气体,电离气体原子通过电场加速时,会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面,等离子体在工件表面发生反应,从而实现清洁、改性、刻蚀的目的,最后将污染物转换为气相,并通过真空泵用连续气体流将其排出。


主要特点

1、超低清洗温度,满足不同场合温度要求,不对清洗产品造成温度影响;

2、旋转装置为行星旋转机构、具镀膜工艺不同,设计为:变频调速,公转式、公自转结合式。采用气动门铰,自动锁门,减少操作程序,增强真空门整体的密闭性及减少对橡胶密封圈的破坏性;

3、高真空度真空腔体设计及制造工艺,配置进口真空泵(分子泵),用户可据自己的需求,随时升级为多功能镀膜设备;

4、设备采用专利的离子束清洗源:专利布气系统。采用原装进口高压激励电路技术,产生高密度等离子体,确保出众的清洗效果;

5、独有的放电技术:特殊处理及特殊结构的放电装置,确保形成稳定均匀的等离子体;

6、智能控制:PLC智能控制+HMI全彩人机触控界面,实现逻辑全自动控制;

7、报警及保护:全面安全防护包括:温度安全防护功能、过载防护功能、短路断路报警防护功能,各种误操作保护功能。异常情况进行报警,并执行相应保护措施。



技术优势

1、物质的微结构表面会粘附各种各样的气体分子、微小颗粒、氧化物杂质等,统称为粘附物,这些粘附物属于微观粒子,宏观的清洗方式不能清除它们;

2、这些微观粘附物会对纳米级膜层产生诸多不利影响,影响膜层的结合力、清洁度、光泽、致密度等;

3、离子束刻蚀清洗源可以在真空条件下产生高能氩等离子体,轰击被镀工件表面;它不仅可以消除表面粘附物,还能“刻蚀”物质表面氧化物,从而得到“新鲜”物质表面,可以极大地提高薄膜的结合力,并提高膜层纯度;

4、离子束清洗工艺通常运行在膜层沉积之前。 清洗各种形状复杂的产品,包括内孔内壁、均匀清洗;

5、设计更紧凑合理、美观;离子束更稳定;工作功率范围更宽;清洗刻蚀效率更高;刻蚀均匀性更好;性能可靠,操作维修简单方便;产品系列更完整;

6、应用领域,可以为如下行业的镀膜提供表面清洗预处理:3C消费电子、半导体、光学、 交通工具、刀具模具、家电、新能源、医疗、军工航天、科研等行业。


设备参数

RIE系列设备参数

炉体尺寸

可定制

有效空间

可定制

工件最大直径*数量

依工件尺寸定量

抽气时间

大气到6X10-3 <15分钟

工作电压/频率

380V/50Hz

实际功率

50KW

应用技术

RIE

镀膜源类型

离子束清洗源

反应气体刻蚀

极限压力

5.0*10-4Pa

漏率

<10-9Pa.L/s

标准涂层

DLC,

其它复合涂层

DLC金刚石膜(DLC

基片转架

公转+自转

真空室结构

立式单开门

电源类型

多种电源

真空系统

分子泵、罗茨泵、旋片泵

生产周期

4-24小时/

外围尺寸

可依安装场而制

产量/

依客户工件尺寸定量

配套条件

循环水压力:4KG/CM3

冷却纯水水量:2T/H

压缩空气:4-6 KG/CM3

控制方式

PLC+触摸屏+组态软件

工艺气体

Ar

工业PC+PLC+触摸屏

自己开发的镀膜专用软件

适用范围

主要利用离子能量清除表面生成物以露出清洁的刻蚀表面的作用。

备注

真空室尺寸,设备外观等可按客户产品或及特殊工艺要求订做,外围尺寸根据客户安装场地条件可做调整。