PVD镀膜机系列

PVD镀膜机系列

IS磁控溅射镀膜机

由离子束清洗(IONBEAM CLEANING)+磁控溅射(SPUTTER)组成工艺系统。

系列设备主要是(集)高能粒子束清洗技术(IONBEAM)和磁控溅射(SPUTTER)两种技术融合一体,可以适应广泛镀膜靶材,无论是金属还是介质、化合材料都可以利用溅射工艺进行镀膜及成膜,使膜层附着力、致密度、重复度及颜色一致性好等特点。可镀制TiN、TiC、TiCN、TiAlN、CrN、Cu、Au、金刚石膜(DLC)、装饰膜等非金属及其化合物的膜层和复合膜层。采用可编控制器PLC+触摸屏HMI组合电气控制系统,实现全自动控制。


主要特点


1、具备加热、离子束溅射清洗和磁控溅射沉积金属层的能力;

2、腔室圆周壁安装磁控溅射源、离子束清洗源和加热器,底部布置高真空抽气系统。顶部有旋转基片架驱动系统和真空度测量系统 ;

3、设备采用全自动控制系统,能控制工艺温度、膜层厚度,能对微孔内壁镀膜;

4、腔室内设置多路偏压板,每路偏压能够独立调节,自由控制通断以及接地设计。偏压由基片架转轴引入腔室;

5、行星转架底座为公转+自转结构,而偏压板底座和基片(电路板)底座为公转结构;

6、突出安全性设计:设备中外露部分,包括真空腔室、抽气系统、离子源背部等能触摸到的表面,全部接地保护;内部带电部分也有明显警示标志。设备控制软件设有自动保护功能。


技术优势

1、 离子束清洗源产生的高能Ar离子,清洗轰击基底表面,可以提高膜层的粘附性;

2、 专利的布气系统,气体流量均利用质量流量计分别进行定量控制;

3、 温度监控采用热偶丝方式,腔室壁设置加热器,通过温度传感器进行加热控制。真空室外壁设置水冷,能确保最高加热温度条件下控制外壁温度不高于40摄氏度;

4、 设备镀膜源的安装法兰采用合页铰链设计,换靶方便,离子源和加热器维护操作简单。所有的磁控溅射离子源、离子束清洗源的安装法兰采用相同尺寸,互换性强,工艺灵活性高;

5、 设备采用工控机+PLC控制方式,完全自动化界面控制,具备工艺配方自动运行能力。


设备参数

PVD系列(IS)设备参数

炉体尺寸

内空间φ1350*H1100(可订制)

有效空间

Φ1036*H600

工件最大直径*数量

依客户工件尺寸定量

抽气时间

大气到8X10-3 <35分钟

工作电压/频率

380V/50Hz

实际功率

50KW

应用技术

IONBEAM+SPUTTER

镀膜源类型

磁控溅射镀膜源

离子束清洗源

极限压力

5.0*10-4Pa

漏率

<10-9Pa.L/s

标准涂层

TiNTa-CTiCNCrNCuAu

其它复合涂层

超级类金刚石膜(DLC)、装饰膜、非金属及其化合物的膜层和复合膜层

基片转架

公转+自转

真空室结构

立式单开门

电源类型

多种电源

真空系统

分子泵、罗茨泵、旋片泵+维持泵

生产周期

依产品工艺要求而定

外围尺寸

L4800*W3550*H2583MM

产量/

依客户工件尺寸定量

配套条件

循环水压力:4KG/CM3

冷却纯水水量:8T/H

压缩空气:4-6 KG/CM3

控制方式

PLC+触摸屏+组态软件

工艺气体

ArN2O2C2H2

工业PC+PLC+触摸屏

自己开发的镀膜专用软件

适用范围

航空及军工业;豪华汽车工业;精密光学行业;高精机械加工行业;科研单位等。

备注

真空室尺寸,设备外观等可按客户产品或及特殊工艺要求订做,外围尺寸根据客户安装场地条件可做调整。