离子镀膜源

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离子镀膜源

IONBEAM离子束清洗源


IONBEAM离子束清洗源特征是:结构简单,束流密度大,离子能量可控,在大面积改性处理方面具有独特的优势,离子束清洗源是在一条环形(长方形或圆形)窄缝中施加强磁场,于真空腔室内在阳极作用下使工艺气体离化产生高能氩待离子体,并轰击被镀工件表面;它不仅可以消除工件表面粘附物,还能“刻蚀”工件表面氧化物,从而得到“新鲜”的工件表面,极大地提高工件表面薄膜的结合力,并提高膜层纯度。离子束清洗源可以做得很大很长,阳极层离子源电流也较大,但其离子流方向性强,且能级分布很宽,适用于大型工件,阳极层离子源还可以应用于离子束辅助沉积,工件表面刻蚀和表面清洗等领域。