IS26镀膜机是采用本公司成熟的专利技术:高能离子束清洗源(IONBEAM)+磁控溅射源(SPUTTER)，设备采用全自动化控制，模块化集成优化，设备功率高、稳定性能好、操作简单且维护方便。为满足不同的镀膜需求，腔室内可设计配置平面圆形靶、条形靶和圆柱靶等多种靶材，可获得致密度高、均匀性能好的多层复合膜，包括各种金属、以及绝缘的氧化物、陶瓷薄膜等;适合涂层研发及批量镀膜服务。
➢可根据产品及涂层需求，选用用平面靶及圆柱靶；
➢特有的核心技术，特殊设计的磁场及工艺气路，有效提升靶材利用率以及长期工艺稳定性；
➢模块化通用接口，直接兼容不同形式阴极靶材，允许直流脉冲、中频、射频工作模式;兼容性强；
➢自主设计的全自动智能化工艺操作系统，提供全面、便捷的工艺配方编辑及调用能力，配备实时工艺参数监控系统，允许在线远程控制。
可用于消费电子、工装模具、汽车零部件、半导体零部件等各个领域。
IS26设备镀制膜层图集（部分）
